伴随集成电路工艺节点的不断演进以及芯片工作速率的持续提高,超高速模拟版图设计受限于越来越复杂的drc约束设计难度也在呈指数级增长,版图设计工程师需要在满足drc的条件下同时设计符合设计指标的版图不得不投入巨大的精力。如何在drc修正和设计指标之间达成更好的平衡,成为每个模拟版图设计人员面临的挑战。本文将会论述,如何应用Cadence的Virtuoso auto APR工具来实现晶体管级和gate level的自动化布局布线,以达到大幅缩减设计周期,快速满足drc验证的目的。Art Flow提供了处理大规模设计的功能,并且能够适应先进工艺的要求。在模拟电路设计中不乏复杂的数字逻辑电路,使用Art Flow来处理这部分版图,相较于传统的手动布局布线方式,效率更高,版图质量也更高,版图设计工程师还可以根据项目需求,迭代需求,灵活优化版图布局布线。而且Virtuoso具备模拟电路的版图编辑和物理检查,将Art Folw嵌入Virtuoso,则可以将两者的优势相结合,协同工作,在同一个环境中同时处理模拟和数字电路,使设计更加顺畅,提高效率。
CMOS RFIC或者高速电路设计当中,无源器件如电感、巴伦和传输线等应用广泛。通常片上无源器件在最终项目迭代中,其结构或者跨越的电路层次会极其复杂。因为其本身设计变化或者电路当中其它设计变化导致的迭代可能会极其需要时间。Virtuoso RF Solution是Cadence这些年提供的包含IC/PKG联合物理设计与电磁仿真的设计流程。设计工程师可以在Virtuoso环境下同时设计/检查/修改IC和PKG的layout以及进行跨IC/PKG的电磁场仿真,最终的结果可以非常方便的集成在普通模拟设计IC设计流程当中。另一方面,Virtuoso RF还提供IC电磁场分析流程(VEM),它可以帮助设计工程师方便地选择IC版图当中哪些部分使用电磁场模型,哪些部分使用普通晶体管级的RC寄生,设计工程师几乎无需在原理图设计中构建极其复杂的无源器件设计层次,高效的完成后仿真迭代。本文主要讨论VEM在某个高速时钟网络当中的应用。
随着工艺的演进,先进工艺复杂的DRC(Design Rule Check)要求引入了更多额外的寄生通路,加上金属走线寄生电阻过大,从而前仿的最终结果和后仿相去甚远,传统设计流程中只能通过extract view能够相对直观一点的分析寄生电阻电容,但是无法进行P2P,各层寄生电阻电容等的快捷计算和显示,如何更好的分析寄生网表成为了设计者们面临的极大挑战。Cadence iQuantus Flow是一个在设计过程中辅助版图寄生迭代的工具。iQuantus可基于版图抽取得到的寄生网表文件进行后仿寄生分析,通过精确的寄生电阻、电容分析辅助进行模拟版图设计优化。同时可通过修改网表、重复分析,快速迭代后仿结果,为版图迭代提供修改方向及参考依据,避免了版图反复修改带来的时间成本问题,辅助设计人员快速优化,极大程度缩短了迭代时间。综上,模拟工程师可以利用iQuantus Flow实现快速的后仿迭代、提高模拟版图迭代速度,大幅提高工作效率。
i-dspf 作为Quantus一种先进的feature,支持交互式分析,可以加快design closure
如今芯片设计规模随着产品需求复杂变得越来越大,验证工程师使用传统的脚本方式进行日常回归存在时间消耗大,服务器资源利用不充分的问题。鉴于jenkins 技术在自动化集成和运维中得到了广泛应用,Cadence基于jenkins推出了Verisium Manager插件,将自动集成技术引入芯片仿真流程,该插件支持free style和pipeline方式使用,支持静态或动态vAPI调用,同时支持用户凭据认证登录Verisium Manager,可方便呈现清晰的仿真数据结果。本文率先使用最新的jenkins pipeline/共享库技术与Verisium Manager插件相结合,利用jenkins job的灵活触发机制,以及共享库的凭据安全性,快捷地部署了基于Cadence Verisium Manager自动集成环境,省去验证工程师繁琐的环境配置和Verisium Manager工具调用脚本编写,并在实际项目中进行了推广测试,实现了芯片验证的持续集成和仿真交付,提升了芯片验证交付效率。
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